Gaiareport

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オゾン層破壊の主な原因とされるフロンはプリント基板や金属の洗浄工程で長年使われてきました。08_09.htmでは1993年に特定フロンを全廃。さらに代替フロンも撤廃すべくプリント基板の無洗浄化を進め1996年に新設備を導入しました。そして1998年度に対象製品すべての無洗浄化を完了しました。
また金属洗浄工程で1.1.1-トリクロロエタンに代わって使用していた塩素系有機溶剤ジクロロメタンについても、測定器を自社開発して使用量削減に努め、 1999年度に新設備を導入して炭化水素系洗浄剤に切り替えました。同様に、赤外センサー部品洗浄用ジクロロメタンについても1999年度中に切り替えを完了する予定です。これにより環境目標に掲げていた「代替フロンと塩素系溶剤の2000 年度迄の撤廃」を1年前倒しして達成することにしています。

「排ガス測定技術開発」では、自動車のテスト走行による騒音・振動低減や電力・冷却水の消費削減に取り組み、環境影響負荷の低減に努めています。

自動洗浄技術を採用した金属部品洗浄装置で、大気・水質規制物質であるジクロロメタンの使用を廃止し、炭化水素系洗浄剤に切り替えています。

窒素雰囲気中でプリント基板の半田付けを行う、N2フローおよびN2リフロー設備を導入。プリント基板を無洗浄化し代替フロンによる洗浄を全廃しました。

生産・研究開発段階での排水チェックはもとより、建屋ごとの7排水経路に自社製pHメータを設置し、綿密な排水管理を実施。また、廃液回収を義務付け、有害物質の排出防止を徹底しています。

ジクロロメタンの1998年度の使用量は2.9tで、前年度比の20%を削減しました。1999年3月には金属加工部品の洗浄を炭化水素系洗浄剤に切替完了し、 1999年度は92%を削減する見込みです。さらに、高品位を要求される光学部品洗浄についても、1999年度中に完全転換し、目標を達成する予定です。

プリント基板洗浄用代替フロン(HCFC-2 25)の1998年度の使用量は613kgで、前年度比16.5%の削減、1996年度比では44.2%の削減となりました。 1999年3月に完全無洗浄化を実施し、環境マネジメントプログラムの目標を2年前倒しで達成しました。