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自動車計測システム機器部門 |
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エンジン排ガス測定装置
エンジンの排ガス中のCO、CO2、T・HC、CH4、NOx、O2を広い濃度範囲にわたって同時かつ連続的に測定するだけでなく、ユーザの様々な要望に対応するフレキシブルなシステム。 |
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エンジンテストシステム
エンジン単体で排出ガス計測や性能評価などの各種実験・解析を行うシステム。省スペースで実路走行時と同じ運転状態をテストセル内において再現することが可能となります。 |
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エンジン自動計測制御システム
エンジンの性能試験、運転試験に対応し、自動運転、自動データ収集、自動演算処理など、多彩な機能を装備。 |
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CO・HCアナライザ
エンジンの調整・点検のため、排ガスに含まれるCO、HCを測定する装置で、自動車整備工場、ガソリンスタンドなどで幅広く活躍。 |
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シャシダイナモメータ
ラボ内で正確な路上走行時の状態を再現するシステム。 |
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車載型排ガス計測システム
実走行時のCO、CO2、HC、NOx、A/Fおよび排ガス流量の連続測定と、GPSによる位置情報や各種センサを用いた走行環境データの取り込みにより、走行距離あたりのガス成分排出量、燃費などの車両状況をトータルかつリアルタイムに把握。 |
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高感度連続PM計測装置
ディーゼルエンジンからの排ガス中に含まれる、粒子状物質(PM)をリアルタイム計測。過渡状況下でのエンジン運転におけるPM生成トレンドが把握できます。エンジン最適化から、各種PM用アフタートリートメントシステムの開発まで、幅広いアプリケーションに貢献。 |
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燃料電池評価装置
燃料電池開発用途として、1ユニットでガス供給、加湿、加圧条件を最適化。単セルからショートスタックまでの性能評価を実現。データ解析機能を加え、開発業務の効率化に貢献。 |
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分析システム機器部門 |
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pHメータ
ガラス電極で高精度にpH値を測定するとともに、2 種類の電極を接続することでイオン、電導率、溶存酸素が測れるマルチ測定を実現。本体と電極は防水構造になっており、水中での測定も可能。 |
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水質モニタリングシステム
U-20XD/W-20XDシリーズ
海洋、河川、湖沼、ダム、井戸水、工場排水等あらゆる水質調査・検査に最適です。長年培ってきたHORIBAのセンサ技術を直径47mmのセンサプローブに凝縮し、すぐれた耐圧性・長期間連続測定・最大13項目の高精度同時測定を実現。さらに、GPSをはじめとする多彩なデータ処理に対応しています。センサプローブを水中に設置しておくだけで、最長1カ月(15分間隔測定時)もの連続測定が可能です。 |
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自動全窒素・全りん測定装置
排水や環境水中の全窒素・全りんを自動で連続測定する、メンテナンス性に優れ、ランニングコストを抑えた測定装置。 |
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大気汚染監視用測定装置
大気中のSO2、CO、O3、NOx、HC、ダストなどを高感度、高精度に連続測定する、メンテナンスに優れたドライ方式の測定装置シリーズ。 |
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煙道排ガス分析装置
火力発電所のボイラや燃焼炉などの煙道排ガス中のNOx・SO2・CO・CO2・O2を高感度・高精度に測定する装置です。分析計1 台でこれら5成分を同時に連続測定します。また、ENDA-625(CO/O2)は廃棄物焼却プラントでの安定燃焼管理に使用することで、ダイオキシンの発生防止に最適です。 |
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X線分析顕微鏡
直径10μm以下の微細X線ビームを形成するX線導管の開発により、大気下での蛍光X線分析と透過X線像と光学顕微鏡の特徴を持つ画期的な製品。WEEE/RoHS/ELV分析に最適な製品、環境にやさしい液体窒素を使わないタイプも取り揃えております。 |
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ICP発光分析装置
ホリバ・ジョバンイボン社の光学技術と堀場製作所の品質の融合により完成した、様々な素材中の微量元素の分析には不可欠な装置です。基礎研究をはじめ、鉄やアルミニウムなどの金属材料から水道水や食品まで幅広い試料の元素分析が可能です。 |
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粒子径分布測定装置
0.01μmから3,000μmの業界一の超ワイドレンジに対応するだけでなく、従来機とくらべて1/4の高速オペレーションを実現。粒子径分布測定で、世界で初めてのデータ精度保証もより強化されました。 |
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分光器/グレーティング(回折格子)
分光器は光を多くの色に分解し、スペクトルとして記録する装置で、ホリバ・ジョバンイボン社の分光器とCCD検出器は、プラズマ発光分光、蛍光スペクトル測定からイメージ分光、品質管理から生産管理まで幅広い分野に利用でき、様々なユーザニーズに応えています。グレーティング(回析格子)は分光器の心臓部の部品であり、学術から工業用まで幅広い分野に大きく貢献しており、ホリバ・ジョバンイボン社は極紫外領域から遠赤外領域まで製造できる世界唯一のメーカです。 |
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ラマン分光分析装置
ラマン分光法は、物質の化学組成の同定や分子構造の解析用として大変有効な分析法で、最近高感度化の手法が見出され、特にナノテク分析など先端研究の広範な分野で大変注目されています。 |
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半導体システム機器部門 |
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デジタルマスフローコントローラ(デジタル式流体制御機器)
半導体製造プロセスにおいて、ガス、液体供給ラインの精密流量制御を行う機器です。ライン圧力変動、温度変動の影響を受ける事なく任意の流量制御を行います。世界に先駆けてCPUを内蔵した高性能、多機能なデジタルマスフローコントローラの製品化を行っています。 |
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残留ガス分析計
ナノレベルに達した最新の半導体プロセスでは、ウェハ表面で所定の化学的・物理的反応状態を再現出来るか否かが最大の課題とされています。とりわけ各種の真空デバイスを用いるドライプロセスでは反応容器に残留するガス計測と制御に注目されています。当社では、世界最小クラスの四重極質量分析型(Quadrupole Mass Spectrometer:QMS)の残留ガス分析計(RGA)をご提供しています。 |
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薬液濃度モニタ
半導体洗浄工程で洗浄液濃度を監視する小型モニタです。SC-1、SC-2、SPM、FPM、フッ酸など各種洗浄液の無駄を省きプロセスの最適化及び生産ラインの歩留まり向上に貢献しています。 |
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PFC濃度モニタ
半導体製造プロセスで使用されるPFCガスの濃度モニタです。PFCガスは地球温暖化ガスに指定されており、半導体工程での環境監視に貢献します。 |
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全自動超薄膜分析システム
全自動で半導体製造工程の超薄膜を分析する為に開発された製品です。ホリバ・ジョバンイボン社の分光エリプソメーターを搭載し、300mmウエハ対応用全自動タイプの装置にまとめたものです。最先端のCPUやフラッシュ・メモリに使われているSiO2膜や多層膜の計測を簡単に行うことができます。 |
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FPD全自動薄膜計測システム
FPD(液晶パネル等)の生産プロセスにおいて、全自動で薄膜の膜厚を、分光エリプソメ-ターで計測するシステムです。 |
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レティクル/マスク異物検査装置
光学技術を駆使したレーザー散乱方式のレティクル/マスク異物検査装置です。1.5μmのラインアンドスペースのパターン上で0.35μm(PRPD3)の異物を検出できます。半導体製造ラインの露光工程において異物管理による歩留まり向上に貢献しています。 |