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半導体システム機器部門
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●売上比率グラフ
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●業績推移グラフ
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2006.3 |
2006.12 |
前期比 |
売上高 |
18,039 |
20,111 |
+11.5% |
営業利益 |
2,491 |
3,955 |
+58.8% |
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(百万円)
※当期より決算期を12月31に変更しています。 |
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●事業概要
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半導体製造装置用ガス・液体流量制御装置(マスフローコントローラ)が売上の約70%を占め、半導体産業の景気動向に影響を受ける事業です。これに対し、グループの技術資源を活用し、300mmサイズウェハ市場で歩留り向上のための半導体製造装置(プロセスチャンバ)周辺のトータルな分析・制御ニーズに対応することで、安定的な収益確保をめざします。
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●中長期経営計画達成に向けて
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2005年後半から回復基調にあった半導体製造装置業界は、2006年に入り、DRAM、NANDフラッシュメモリー生産設備の大型投資を中心に大きく拡大し、結果として2000年のITバブル期を超える過去最高の活況の年となりました。
半導体システム機器部門は、2005年10月に増築した熊本・阿蘇工場が基幹工場として稼動する事に成功した結果、主力製品であるマスフローコントローラを中心とした流体制御製品、洗浄装置用薬液モニタなどの大幅増産を可能にし、市場の伸びと米国を中心とした市場シェア拡大と相まって、売上を大きく伸ばしました。
2007年の半導体製造装置市場は、PC用の新OS、Windows Vistaの発売や、携帯電話の高機能化、デジタルカメラやMP3プレイヤーの高容量化などで、メモリー市場を中心に更に拡大すると見られますが、一方、半導体メモリーやデジタル家電の価格低下は非常に早いスピードで進んでおり、半導体製造装置への性能・コスト・スピードに対する要求は大変厳しいものがあります。この状況に対応するため、販売サービス面で、台湾の南部地区サポート拠点の開設、韓国の人員増強、中国上海のサポート拠点増設、そして開発面では、今までの京都、米国ネバダ州に加え、シリコンバレー(カリフォルニア州サンタクララ)にテクノロジーセンターを開設し、半導体最先端技術に貢献する計測技術の開発拠点としての活動をスタートさせます。
このように半導体システム機器部門では、2007年に更なる飛躍に向けて、数々の積極策を実行し収益拡大をめざします。
※売上高・営業利益などの予想は、当社の決算短信・業績予想修正などの開示情報をご確認下さい。
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●2006年12月期業績と取り組み事項
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半導体市場の活況や顧客ニーズに合った製品開発による需要増加と、供給面で熊本・阿蘇工場における増産が軌道に乗ったことで好成績を収めることができました。
製品別では、主力の半導体製造装置用マスフローコントローラの販売が、需要拡大と販売シェア上昇を背景に、国内・北米市場で大幅に増加したことに加え、薬液濃度モニタが洗浄装置メーカの旺盛な需要で販売が伸びました。
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●2007年12月期の見通し
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より高精度なガス流量制御を可能にする差圧式デジタルマスフローモジュールに加え、半導体ウェハの300mm化で、歩留り向上のための各種モニタリング装置への需要が拡大していることから、配線工程用フッ酸濃度モニタ、露光工程用超低濃度アンモニアモニタなど、最先端の半導体プロセスで必要とされる製品を投入し、半導体市況の波に乗ることをめざします。
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●主要製品とマーケットシェア
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●製品用途
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半導体製造工程におけるガス流量制御・洗浄薬液モンタリング、半導体・液晶の品質検査
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●主要顧客
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半導体製造装置メーカ、半導体デバイスメーカ、洗浄装置メーカ
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