HOME
>>
ニュース
>>
過去のイベント
>>
2004分析展
HORIBAブースにて下記内容のセミナーを開催いたします。
カーボンナノチューブ、有機EL、WEEE、RoHS各セミナー期間中開催しています。
会場:幕張プリンスホテル・プリンスホール
ナノ材料や有機ELなどの材料開発の分野で、蛍光・燐光測定技術が注目されている。常に世界最高レベルの装置開発を続けるJY Jobin Yvon社の蛍光分光装置。蛍光寿命マッピング・近赤外蛍光による最新分析装置の最新情報を応用実例とともにご紹介。
WEEE/RoHS、ELV、土壌汚染対策法など、ICP発光法で正しく測定するためには前処理が決め手です。本講演はCd,Pb,Hgや今までできないとされてきたCr6+の測定をICP発光法で行なうための前処理方法について述べます。
世界で注目されるナノテク技術、10nm以下の粒子の合成や配列などの制御が可能になりつつある。必然的にナノ粒子の大きさを正確且つ簡単に測定できる技術ニーズも高まってきた。本講演では、ナノテクアプリケーションに対応した計測技術を分かり易く紹介。
常に世界最高レベルの装置開発を続けるJobin Yvon社のラマン分光装置。カーボンナノチューブや半導体など世界中の先端研究の現場で日々開発されている最新の分析トピックスを装置開発の視点から解説する。
会場:幕張メッセHORIBAブース内
第5回 効率的環境汚染測定・評価技術フォーラム
解説と実演セミナー「新しい環境規制対応のための簡易測定技術」
TOP
Copyright © 2008 HORIBA, Ltd. All rights reserved. この文書に記載されている情報は通知なく変更されることがあります。ウェブサイトで更新を確認してください。このページは次の場所からコピーされました。