新技術説明会 |
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会場：幕張プリンスホテル・プリンスホール
※新技術説明会では新製品のご紹介も合わせて行いますので是非ご来場ください。
※事前登録は行っておりません。先着順となります。
8月31日(水) 14:50-15:40 |
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定員：200名 6室 |
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「今だから聞きたい! WEEE RoHS & ELV 規制の最新動向と測定」 |
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目前に迫ってきたWEEE RoHS、ELV規制について、最新アップデートした法令のご紹介と分析法の測定標準化および測定管理手法について述べます。 |
9月1日(木) 12:40-13:30
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定員：100名 7室
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「究極の粒子多角解析!1nmから30mm
スーパーワイドレンジで測る・観る・評価する」
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ナノ粒子の開発からその応用先(バルク)までを考慮したHORIBAの粒子径測定ラインナップは、1ナノから3センチメートルまでをカバー。さらに一つ一つの粒の“大きさ”と“形”を同時に測定する画像処理技術も導入し、粉体解析力が充実しました。
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9月1日(木) 14:50-15:40 |
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定員：100名 8室 |
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「なるほど納得! ラマン分光測定ノウハウ」 |
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常に世界最高レベルの装置開発を続けるホリバJobin Yvon 社のラマン分光装置。カーボンナノチューブや半導体など世界中の先端研究の現場で日々開発されている最新の分析トピックスを装置開発の視点から解説する。 |
9月2日(金) 14:50-15:40 |
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定員：100名 11室 |
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「“使える”表面分析 パルスGD-OESを用いた分析事例のご紹介」 |
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ここ最近、深さ方向媒迅速媒分析ツールとして活用されているGD-OES法の新展開として、これまで測定が難しかった有機膜やガラス系の表面分析を可能にしたパルス高周波グロー放電(pulse-rf-GD-OES)による最新分析事例をご紹介します。 |
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2004分析展
新技術セミナー会場風景 |
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