会場：

アパホテル&リゾート<東京ベイ幕張>・東京ベイ幕張ホール
(旧幕張プリンスホテル・プリンスホール)

8月30日(水)

13：45〜14：35　10室　定員：100名
EDX(エネルギー分散X線分析装置)の最新機能を利用したアプリケーション

14：50〜15：40　10室　定員：100名
ナノテク材料の光学分光的評価に貢献するホリバ・ジョバンイボン(HORIBA JOBIN YVON)製品とその最新アプリケーション

8月31日(木)

10：30〜11：20　7室　定員：100名
見直そう、rf-GD-OESの能力と最新技術

11：35〜12：25　11室　定員：100名
pH高精度測定に不可欠なバリデーション手法と最先端のpHメータ技術

12：40〜13：30　10室　定員：100名
新型・酸素/窒素分析装置(New-EMGA)の開発とアプリケーション

13：45〜14：35　8室　定員：100名
最近の微小異物分析の実際と最適ソリューションの選択

14：50〜15：40　11室　定員：100名
X線分析顕微鏡の最新アプリケーション

9月1日(金)

10：30〜11：20　8室　定員：100名
高精度・高速微粒子計測技術
アプリケーション対応力も強化

11：35〜12：25　6室　定員：200名
有害元素規制(RoHS、ELV等)の最新動向と分析技術

14：50〜15：40　7室　定員：100名
紫外分光技術を応用した新しいモニタリング・ソリューション