HORIBA : SEMICON Japan 2006　(セミコンジャパン 2006)

■日　　時：2006年12月7日(木)
■会　　場：ホール3、ルーム1

11：30～12：20

生成異物、HAZE対策に。
露光工程エリアにおける微量アンモニアガスモニタの紹介

12：30～13：20

レティクル/マスク異物検査装置の新アプリケーション、
レティクル上のHAZE観察について

15：30～16：20

HORIBAグループ半導体関連ビジネス・製品紹介

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