FPD生産プロセス用製品一覧
分類
純水プロセス(ウエットプロセス)
素材解析(微粒子分析、欠陥解析)
薬液プロセス(ウエットプロセス)
ガス制御/濃度管理(ドライプロセス)
圧力計測(ドライプロセス)
プラズマプロセス
排水分析
薄膜分析
半導体生産プロセス用製品一覧
太陽電池製造プロセス用製品一覧
純水プロセス(ウエットプロセス)
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超純水用インラインパーティクルセンサ
PLCA-800
シリカモニタ
SLIA-300
シリカ分析装置
SLIA-2000
ポータブルDOモニタ
SD-300
比抵抗計
OE-96R
比抵抗計
OE-960CE
素材解析(微粒子分析、欠陥解析)
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エネルギー分散型X線分析装置
EMAX ENERGY
X線分析顕微鏡
XGT-5000
マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置
JY-5000RF
ラマン分光測定装置
薬液プロセス(ウエットプロセス)
TOP
光ファイバ式薬液濃度モニタ
CS-100F1シリーズ
SC-1モニタ
CS-131
SC-2モニタ
CS-152
SPMモニタ
CS-150
BHFモニタ
CS-137
HF/HNO
3
モニタ
CS-153N
FPMモニタ
CS-153
TMAH/H
2
O
2
モニタ
CS-139E
フッ酸モニタ
CM-200/210
薬液用インラインパーティクルセンサ
PLCA-800
インライン型オゾンモニタ
OZ-96i
溶存オゾンモニタ
OZ-96
耐フッ酸用pH計
CP-480
スラリー用pH計
OP-96F
スラリーモ二タ
DE-100
IPA比抵抗計
IP-960
IPAガス濃度モニタ
IR-150AS
2チャンネル導電率計
OE-96CW
カーボンセンサ導電率計
CE-480C-GC
TMAH測定導電率計
CEH-480TM
アンモニア濃度計
ON-96
液体微少マスフローメータ
LF Series
液体微少マスフローコントローラ
LV Series
ガス制御/濃度管理(ドライプロセス)
TOP
FTIRガス分析計
FG-100A series
デジタルマスフローコントローラ
SEC-Z/F/V Series
インラインガス濃度計
IR-150
デバイスネット対応マスフローコントローラ
SEC-Z10D Series
オートプレッシャレギュレータ
UR-7340/7350 Series
コンパクトベーキングシステム
LSC-A100 Series
液体材料気化供給システム
VC Series
オートレフィルシステム
LU-A1000 Series
マスフローコントローラ
SEC-4001 Series
マスフローコントローラ
SEC-8000 Series
圧力計測(ドライプロセス)
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残留ガス分析計
MICROPOLE™ System
キャパシタンスマノメータ
VG Series
プラズマプロセス
TOP
干渉式リアルタイム膜厚モニタ
LEM-CT-670-G50/G120
DIGILEM-CPM-Xe/Halogen
プラズマ発光分析エンドポイントモニタ
DigiCPM_J
排水分析
TOP
フッ素イオン測定装置
FLIA-101
自動全窒素・全りん測定装置
TPNA-300
薄膜分析
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全自動薄膜計測システム
FF-1000
分光エリプソメータ
UVISEL
イベント
【千葉】2008分析展
2008年09月03日
ニュース
粒子径測定装置（LA-950V2）を発売
2007年08月22日
米国シリコンバレーに『ホリバテクノロジーセンター』を開設
2007年07月05日
今春スタートの中国RoHS規制に、微小・高感度の多機種品揃えで完全対応
2007年02月27日
中国の生産体制を本格稼動へ 上海に中国2番目の工場が完成
2006年09月27日
『2006 堀場雅夫賞』受賞者決定／授賞式は10月17日
2006年08月22日
Readout No.33を発行:今号は，X線分析を対象技術とした2006堀場雅夫賞を特集しています。高エネルギー放射光を用いた蛍光X線分析，共鳴X線非弾性散乱，蛍光X線／ラマン複合機，屈折X線による透過画像などの受賞者論文と共に，研究開発の難しさ，X線分析のすばらしさ，X線分析顕微鏡の開発経緯，最近のX線要素技術，3次元元素イメージングなど，興味深い内容の審査委員講演抄録を掲載しています。製油所試験室から分析機器メーカへの要望についての寄稿も，これら先端の科学技術とは別の意味で，高い意義を持っています。分析技術のさまざまな側面を広く理解していただくために，Readoutが貢献できればと願っています。
2007年09月26日
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