太陽電池製造プロセス用製品一覧
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不純物管理
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純水プロセス
計測／エッチング制御／薄膜分析
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不純物管理
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酸素・窒素分析装置
EMGA-620
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XGT-5000 Series
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GD-Profiler 2
純水プロセス
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高感度シリカモニタ
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シリカ分析装置
SLIA-2000
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SD-300
計測／エッチング制御／薄膜分析
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干渉式リアルタイム膜厚モニタ
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紫外可視分光エリプソメータ
UVISEL
全自動薄膜計測システム
FF-1000
干渉式リアルタイム膜厚モニタ
DIGILEM-CPM-Xe/Halogen
可視分光エリプソメータ
MM-16
全自動超薄膜計測システム
UT-300
プラズマ発光分析エンドポイントモニタ
DigiCPM_J
全自動ラマン分光測定装置
FR-3000
排水分析
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フッ素イオン測定装置
FLIA-101
自動全窒素・全りん測定装置
TPNA-300
簡易フッ化物イオンモニタ
IF-250
薬液プロセス
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光ファイバ式薬液濃度モニタ
CS-100F1 Series
IPAガス濃度モニタ
IR-150AS
比抵抗計
HE-480R
薬液濃度モニタ
CS-100 Series
低濃度HF/HCL/NH3濃度モニタ
HF-960M
導電率計
HE-480 Series
フッ酸モニタ
CM-200/210
溶存オゾンモニタ
HZ-960
液体微少デジタルマスフローメータ／コントローラ
LF-F/LV-F Series
ガス制御／濃度管理／圧力計測
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マルチレンジ／マルチガスデジタルマスフローコントローラ
SEC-Z500X Series
マスフローコントローラ
SEC-E40 Series
オートプレッシャレギュレータ
UR-7340/7350 Series
液体材料気化供給システム
LSC-A100 Series
液体材料自動供給システム
LU-A1000 Series
残留ガス分析計
MICROPOLE™ System
FTIRガス分析計
FG-100A Series
イベント
【大阪】計測展2008
2008年11月26日
【千葉】SEMICON Japan2008
2008年12月03日
ニュース
クリーンルーム内の極微量アンモアガス濃度計測装置、本格販売
2008年08月29日
粒子径測定装置（LA-950V2）を発売
2007年08月22日
米国シリコンバレーに『ホリバテクノロジーセンター』を開設
2007年07月05日
今春スタートの中国RoHS規制に、微小・高感度の多機種品揃えで完全対応
2007年02月27日
中国の生産体制を本格稼動へ 上海に中国2番目の工場が完成
2006年09月27日
Readout English Edition No.12を発行:Readout English Edition No.12を発行致しました。今号はX線分析を対象技術とした堀場雅夫賞を特集した英文版です。JAIMA会長として強い思いを述べられた社長の巻頭言、高エネルギー放射光を用いた蛍光X線分析、共鳴X線非弾性散乱、蛍光X線／ラマン複合機、屈折X線による透過画像に関する各受賞論文と、X線技術と応用および研究開発経緯に関する各審査員の方々の講演内容を英文化しました。寄稿論文「製油所における試験室から分析機器メーカへの要望」の英文版も掲載しております。堀場雅夫賞とHORIBAの技術をWorldwideに発信する内容となっています。
2008年09月25日
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