“生成異物”
“HAZE”対策の1stステップ!
微細化の進む半導体製造プロセスでは、ますます厳しい工程管理が求められています。
特に最近の露光工程(リソグラフィープロセス)では、プロセス雰囲気の厳密な管理が求められ、Haze問題(マスク表面の生成異物や露光装置内レンズ表面の曇り問題)の原因のひとつとされている微量アンモニアガスの管理が必要となってきています。
そのため、従来の測定手法では測定困難な極低濃度でのアンモニアガスのリアルタイムモニタリングが求められています。
HORIBAは新しい計測技術CRDS法を採用したモデルCG-1000でプロセスでのご要望にお応えします。






