半導体製造工程におけるフッ酸濃度監視用に開発された高精度なフッ酸濃度モニタです。電磁誘導方式導電率計の採用により、フッ酸濃度を測定し、リアルタイムに表示します。エッチングを含むウエハの洗浄工程(RCA洗浄プロセス、平坦化プロセス)などフッ酸が利用されている産業分野に幅広く対応します。

フッ酸濃度をリアルタイムに表示
フッ酸濃度を導電率センサで検知、<導電率>-<フッ酸濃度>の検量線より、自動的にリアルタイムでフッ酸濃度を表示します。

半導体製造工程における低濃度域での高い精度を実現
半導体製造プロセスで使用されるフッ酸溶液のほぼすべてをカバーする0-1/2/5/10/20wt%レンジをラインアップ。特に、0-1wt%の低濃度レンジでも±2%F.S.以内の再現精度を実現。最近要求の多いメモリ生産ラインでの低濃度域濃度管理に威力を発揮します。

安定した測定を保証するセンサ
センサ接液部はPFA樹脂で完全にモールドされており、フッ酸溶液による金属腐食の恐れがありません。また、サンプル溶液への金属などの不純物の溶出もなく、安定した測定が可能です。

警報機能を装備
より確実なプロセス管理のため濃度出力及び濃度上限・濃度上上限・濃度下限・濃度下下限の各警報出力を装備しています。

多用途に使用可能
コンパクトなDIN96サイズの変換器を採用。小形・計量でフッ酸の希釈装置、供給装置、ウエハの洗浄装置への組み込みに最適です。また、センサは液に直接浸ける浸漬形(CM-200)と、プロセス配管中に設置する流通形(CM-210)をラインアップ。用途に合わせた選択をしていただけます。

¥1,575,000〜