半導体洗浄プロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニターです。洗浄工程で金属イオンや自然酸化除去膜のために使われる、FPM溶液(HF/H₂O₂/H₂0)の各成分の濃度監視に最適。また、半導体洗浄プロセス機への組み込みにより、薬液の交換時期を適確に把握できます。

温度補償型多変量解析法による高精度測定。多変量解析法を採用し、測定波長点数を大幅にアップしました。しかも、温度補償型のため、サンプル温度にも影響されない正確な測定が可能となりました。

24時間薬液濃度を監視、無駄な薬液交換は不要。FPM溶液の濃度を常時モニタし、アラームでFPM溶液を自動補給するタイミングを知らせます。そのため、常にFPM溶液の濃度を許容範囲内に保つことができ、従来のような無駄なFPM溶液の交換は必要なく、薬液の長寿命化を図ることができます。

ユーザーはFPM溶液を導入するだけで、測定は全自動で行い、測定のための制御は一切不要です。また、参照スペクトル測定には従来のように水を使用せず空気を使用しているため、ユーティティーとしての水は不要です。

表示部(操作部)が分析部と分離されているため、洗浄器への組み込みが容易です。

AC電源入力は100-240Vまで切り換えなしで同一電源でカバーできます。

フッ酸対応として、フローセル材質にサファイアを採用しています。

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。

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