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全自動薄膜計測システム(膜厚計)
FF-1000
アモルファスシリコン、低温ポリシリコン、有機EL
次世代FPDにおける最先端の計測ニーズに対応
・TFTにおけるアモルファスシリコン、低温ポリシリコンや有機ELなど次世代FPDにも対応
TFTにおけるアモルファスシリコン、低温ポリシリコンや技術的な飛躍がもっとも期待される有機ELなど、次世代FPDの製造工程にも対応しています。
・第8世代大型ガラス基板も測定可能
2m角以上の大型ガラス基板など、各種基板サイズに対応しています。
*より大きなサイズについてはお問い合わせください。
より高度な計測ニーズに応えるハイレベルな性能
・機械的振動のないPEM素子*を採用し、高速・高精度な測定を実現
*フォトイラスティク・モジュレータ：光弾性変調素子
HORIBA JOBIN YVON社の分光エリプソメータは、他社と異なりPEM素子を用いた位相変調方式を採用。外光の影響をほとんど受けないばかりか機械的振動もなく、高速・高精度な測定を実現します。
・TFT用の多層膜の計測が可能
190nmから830nm(標準:240〜830nm)と短波長から長波長までの広範囲な波長域での膜厚測定・データ解析が行えます。
・100msの高速・高感度測定をはじめ、測定は2モードから選択可能
高度な評価を可能にしたモノクロモードと、高速測定モードを装備。高速測定モードでは、多波長同時測定ユニットにより、高感度で最小測定時間100msの高速測定を実現しています。
●多波長同時測定ユニット
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