フッ酸モニタ
CM-200/210
DIN96サイズでフッ酸の希釈装置、ウエハ洗浄装置への組み込みに最適。センサには流通形と浸漬形をラインアップしました。

SC-2モニタ
CS-152
半導体洗浄工程で金属イオン除去に使われるSC-2溶液(HCl/H₂O₂/H₂O)の各成分の濃度を測定し、交換時期を知らせます。分析部と電源部を分離させ安全性の向上を図りました。

SPMモニタ
CS-150
半導体洗浄工程で有機物除去に使われるSPM溶液(H₂SO₄/H₂O₂/H₂O)の各成分の濃度を測定し、交換時期を知らせます。分析部と電源部を分離させ安全性の向上を図りました。

FPMモニタ
CS-153
半導体洗浄工程で酸化膜除去に使われるFPM溶液
(HF/H₂O₂/H₂O)の各成分の濃度を測定し、交換時期を知らせます。分析部と電源部を分離させ安全性の向上を図りました。