レティクル/マスク異物検査装置
PR-PD2
技術資料
300mm 世代とシステムLSI 製造に対応し、歩留まり向上に大きな威力を発揮するレティクル/マスク異物検査装置
本装置は、露光用レティクルやマスク上の異物を高感度に検出し、その位置を高精度に特定し画像に表示します。本装置は、アルゴンによるレーザ散乱方式を採用することにより、最小検出0.35μmの異物を90%以上の検出率で測定できます。また、各種のマスクケースに対応する多段ソータや各種通信機能を充実させるなど、あらゆる半導体製造ラインに即応できる構成となっています。
測定原理
本装置ではレーザー散乱光方式を異物の検出原理としています。レーザー光は異物に照射されると散乱されますが、その散乱強度を測定することにより異物を検出します。ガルバノミラーにより検査面全体にわたってレーザー光を走査し、散乱光の強度を測定します。さらに異物とパターンとでは信号に差があることに着目し、独自に開発したローパスフィルタにより弁別効率をアップ。また安定稼働のため、アルゴンレーザ(488nm)を採用しています。
特長
■0.35μmの異物を検出
レーザ散乱方式とArレーザの採用により最小0.35μmの異物が検出可能。
■高い安定性
一定周期でレファレンス測定により光源の変動影響を補償し、長時間にわたり安定した測定が可能。
■高い弁別率
ローパスフィルタにより異物/パターンの弁別率が大幅に向上し、位相シフトマスク(ハーフトーンマスク)、OPC マスクなども検査可能。
■多段ソータ対応
各種のマスクケースに対応できる構造で、最大10段の多段ソータ対応が可能。
■通信機能の充実
通信系のOSにはMicrosoftWindowsNTを採用し操作性を高めるとともに、ホスト通信ではSECS、GEMに対応しています。
■その場観察
顕微鏡により異物を光学的観察し、異物の性状をその場観察することができる。
ローパスフィルタによる弁別原理
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(a)元信号 |
(b)ローパスフィルタ特性 |
(c)差分出力 |
ローパスフィルタの効果
＜テストパターン＞ |
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(a) |
(b) |
(c) |
＜出力信号＞ |
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(a) |
(b) |
(c) |
主な仕様
検査対象 |
ベリクル付き(不付き)レティクル、マスク |
基板サイズ |
5、6、7インチ(9インチはオプション)、厚さ：2.3〜6.3mm |
検出能力 |
パターン面0.35μm(検出率90%以上)
ガラス面5.0μm(検出率90%以上)
ベリクル面10.0μm(検出率90%以上) |
検査時間 |
約13分(4面検査にて) |
顕微鏡観察 |
パターン面(約220倍、約440倍、約1100倍切替可)
ガラス面(約440倍固定) |
外形寸法 |
1710mm (W)×1260mm(D)×1540(H) |
設置面積 |
2710mm(W)×2195mm(D) |
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レティクルの4面検査結果 |
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