レティクル/マスク異物検査装置
PR-PD2
使用環境
パターン上の最小0.35μm微細異物を検出します。
レティクル/マスク線幅1.0μm、ライン間1.0μmのパターン判別機能により、検出誤差を最小限に抑えます。
用途
■レティクル/マスク製造工程
マスク/レティクルブランク上の異物検査・測定
EBにて描画・洗浄後のパターン/ガラス面の異物検査・測定
ペリクル貼付け後のパターン/ガラス/ペリクル各面の異物検査・測定
貼付け前のペリクル単体の異物検査・測定(オプション機能)
■露光工程
レティクル/マスクの受入検査
露光前のレティクル/マスクのルーチン異物検査・測定
レティクル/マスクの定期的な異物検査・測定
特長
最小検出感度0.35μm。 |
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レーザ散乱方式と独自の信号処理方式の採用により、最小0.35μmの異物が検出可能。レティクル/マスク線幅1.0μm、ライン間1.0μmのパターン判別機能により、検出誤差を最小限に抑えます。
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各種ステッパーケースに対応する多段ソータ。
最大10段まで可能な多段ソータは、各種ステッパーケースをはじめSMIF-PODに対応。複数のメーカーや異なるサイズのステッパーケースが組み合わせが可能です。
操作は簡単。DMSでデータ管理も自在。
レティクルの大きさ、検査の形状、検査表面のエリア、レベルなど多彩な検査条件が設定でき、測定操作はいたって簡単。また、測定結果は異物の大きさによってマッピング表示され、検出操作中に基板上で発見された異物をマトリックスでリアルタイムに表示できます。検査結果はデータベースサーバに保存され、DMS(データ管理ソフト)によってデータ管理、各種レポート出力、使用者条件の設定など多彩な管理が可能。LAN接続によるデータの双方向通信も行えます。
■通信接続例
上下面異物観察機能を装備。
レティクル/マスク面の上側に1個、下側に4個の顕微鏡対物レンズを搭載。上面は440倍、下面の検査面は220倍、440倍、880倍、2200倍の観察倍率が切換え可能です。これによって、上下面の異物を直接観察することができます。
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▲異物マップと観察画面 |
ハイレベルな誤検出防止機能。
独自の信号処理方式採用により、1.0μm/1.0μmL&Sレベルまで誤検出防止を可能にしています。ローパスフィルタを使用したパターン弁別機能により、疑似検出を最小限に抑え、密集したパターンの誤検出対策も効果的に行うことができます。
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