HORIBA : 半導体システム / FPDプロセス(LCDモジュール)

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進化するFPDの最前線をトータルに支える HORIBAグループの分析装置。半導体で鍛えられた技術をFPDへ。 HORIBAグループは、スペックの厳しいシリコン半導体製造プロセスで培われた分析・評価技術をFPDプロセスでもいかんなく発揮しています。ガスや薬液の組成、マスク上異物検査、薄膜計測など各工程における生産支援はもちろん、PDP、有機EL、FEDと多彩に進化するFPDの研究開発を高性能分析機器でサポートしています。
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薬液プロセス

■SC-1モニタ

■SC-2モニタ

■FPMモニタ

■BHFモニタ

■HF/HNO₃モニタ

CS-153N

■光ファイバ式薬液濃度モニタ

CS-100F1 Series

■TMAH/H₂O₂モニタ

CS-139E

■SPMモニタ

CS-150

■硫酸・過酸化水素中
微量フッ酸濃度モニタ

■フッ酸モニタ

■IPAガス濃度モニタ

■低濃度HF/HCL/NH₃濃度モニタ

■溶存オゾンモニタ

HZ-960

■カーボンセンサ比抵抗計

HE-960R-GC

■2チャンネル比抵抗計

HE-960RW-GC

■比抵抗計

■TMAH測定導電率計

■導電率計(低濃度タイプ)

■導電率計(高濃度タイプ)

■液体微少デジタルマスフローメータ/コントローラ

LF-F/LV-F Series

排水分析

■フッ素イオン測定装置

FLIA-101

■自動全窒素・全りん測定装置

TPNA-300

■簡易フッ化物イオンモニタ

IF-250

薄膜分析

■全自動薄膜計測システム

■可視分光エリプソメータ

■紫外可視エリプソメータ

■全自動超薄膜計測システム

■全自動ラマン分光測定装置

FR-3000

計測／エッチング制御

■干渉式リアルタイム膜圧モニタ

LEM-CT670

■プラズマ発光分析エンドポイントモニタ

DigiCPM_J

■干渉式リアルタイム膜圧モニタ

DIGILEM-CPM-Xe/Halogen

露光工程

■FPD用大型マスク異物検査装置

PR-PD4

■微量アンモニアガスモニタ

CG-1000

圧力計測

■残留ガス分析計

MICROPOLE™ System

ガス制御／濃度管理

■FTIRガス分析計

FG-100A Series

■オートプレッシャレギュレータ

UR-7340/7350 Series

■インラインガスモニタ

IR-150S/150L

■マルチレンジ／
　マルチガスデジタルマスフロー
　コントローラ

SEC-Z500X Series

■ウェハ裏面冷却システム

GR-300 Series

■液体材料自動供給システム

LU-A1100 Series

■液体材料気化供給システム

		MI/MV/VC Series
		LSC-A100 Series

純水プロセス

■超純水用インラインパーティクルセンサ

■高感度シリカモニタ

■シリカ分析装置

■溶存酸素モニタ

■超純水用比抵抗計

素材解析（微粒子分析、欠陥解析）

■エネルギー分散型X線分析装置

■X線分析顕微鏡

■グロー放電発光分析装置

■ラマン分光測定装置

クリーンルーム内雰囲気監視

■クリーンルーム内雰囲気ガスモニタ

TG-500 Series

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