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製品&サポート
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露光工程
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レティクル/マスク異物検査装置
PR-PD2 HR
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レティクル/マスク異物検査装置
PR-PD2
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レティクル/マスク異物検査装置
PR-PD3
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レティクル/マスク異物検査装置
PR-PD5
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FPD用マスク異物検査装置
PR-PD4
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自動異物ブローシステム
RP-1
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微量アンモニアガスモニタ
CG-1000
素材解析
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全自動PL測定装置
Photoluminor-O
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カソードルミネッセンス測定装置
MP Series
素材解析(微粒子分析、欠陥解析)
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エネルギー分散型X線分析装置
EMAX ENERGY
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X線分析顕微鏡
XGT-5000
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グロー放電発光分析装置
GD-Profiler 2
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ラマン分光測定装置
LabRAM ARAMIS
純水プロセス(ウェットプロセス)
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超純水用インラインパーティクルセンサ
PLCA-800
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溶存酸素モニタ
SD-300
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高感度シリカモニタ
SLIA-300
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超純水用比抵抗計
HE-960RW
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シリカ分析装置
SLIA-2000
純水計測へ
排水分析
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簡易フッ化物イオンモニタ
IF-250
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自動全窒素・全りん測定装置
TPNA-300
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フッ素イオン測定装置
FLIA-101
ガス制御/濃度管理(ドライプロセス)
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FTIRガス分析計
FG-100A Series
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マルチレンジ/マルチガス
デジタルマスフローコントローラ
SEC-Z500X Series
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インラインガスモニタ
IR-150S/150L
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液体材料気化供給システム
MI/MV/VC Series
LSC-A100 Series
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オートプレッシャレギュレータ
UR-7340/7350 Series
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液体材料自動供給システム
LU-A1100 Series
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ウェハ裏面冷却システム
GR-300 Series
ガス計測へ
圧力計測(ドライプロセス)
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残留ガス分析計
MICROPOLE System
計測/エッチング制御/薄膜分析
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干渉式リアルタイム膜厚モニタ
LEM-CT670
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干渉式リアルタイム膜厚モニタ
DIGILEM-CPM-Xe/Halogen
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プラズマ発光分析エンドポイントモニタ
DigiCPM_J
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プラズマエッチング集中管理システム
MULTI CPM
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紫外可視エリプソメータ
UVISEL
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可視分光エリプソメータ
MM-16
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全自動薄膜計測システム
FF-1000
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全自動超薄膜計測システム
UT-300
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全自動ラマン分光測定装置
FR-3000
薬液プロセス(ウェットプロセス)
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SC-1モニタ
CS-131
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溶存オゾンモニタ
HZ-960
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SC-2モニタ
CS-152
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硫酸・過酸化水素中
微量フッ酸濃度モニタ
HF-700
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SPMモニタ
CS-150
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2チャンネル比抵抗計
HE-960RW-GC
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BHFモニタ
CS-137
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カーボンセンサ比抵抗計
HE-960R-GC
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HF/HNO
3
モニタ
CS-153N
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比抵抗計
HE-480R
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FPMモニタ
CS-153
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導電率計(高濃度タイプ)
HE-480H
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TMAH/H
2
O
2
モニタ
CS-139E
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導電率計(低濃度タイプ)
HE-480C
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光ファイバ式薬液濃度モニタ
CS-100F1シリーズ
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TMAH測定導電率計
HE-960TM
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フッ酸濃度モニタ
CM-200A/210A
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液体微少デジタルマスフローメータ/コントローラ
LF-F/LV-F Series
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IPAガス濃度モニタ
IR-150AS
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低濃度HF/HCL/NH
3
濃度モニタ
HF-960M
薬液計測へ
CMPプロセス
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レーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置
LA-950V2
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動的光散乱式粒径分布測定装置
LB-550
クリーンルーム内雰囲気監視
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クリーンルーム内雰囲気ガスモニタ
TG-500 Series
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