不純物管理
	■	酸素・窒素分析装置   EMGA-620		■	レーザー回析／散乱式 粒子径分布測定装置   LA-950V2		■	水素分析装置   EMGA-621W
	■	ICP発光分析装置   ULTIMA 2		■	炭素・硫黄分析装置   EMIA-920V

素材解析
	■	フォトルミネッセンス測定装置※   Photoluminor		■	X線分析顕微鏡   XGT-5000 Series		■	エネルギー分散型X線分析装置   EMAX ENERGY
	■	顕微レーザラマン 分光測定装置※   LabRAM ARAMIS		■	グロー放電発光分析装置※   GD-Profiler 2

純水プロセス
	■	高感度シリカモニタ※※   SLIA-300		■	超純水用比抵抗計※※   HE-960RW		■	シリカ分析装置   SLIA-2000
	■	溶存酸素モニタ※※   SD-300
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計測／エッチング制御／薄膜分析
	■	干渉式リアルタイム膜厚モニタ※   LEM-CT670		■	紫外可視分光エリプソメータ※   UVISEL		■	全自動薄膜計測システム   FF-1000
	■	干渉式リアルタイム膜厚モニタ※   DIGILEM-CPM-Xe/Halogen		■	可視分光エリプソメータ※ MM-16		■	全自動超薄膜計測システム   UT-300
	■	プラズマ発光分析 エンドポイントモニタ※   DigiCPM_J		■	全自動ラマン分光測定装置 FR-3000

排水分析
	■	フッ素イオン測定装置   FLIA-101		■	自動全窒素・全りん測定装置   TPNA-300		■	簡易フッ化物イオンモニタ※※   IF-250

薬液プロセス
	■	光ファイバ式薬液濃度モニタ   CS-100F1 Series		■	IPAガス濃度モニタ   IR-150AS		■	比抵抗計※※   HE-480R
	■	薬液濃度モニタ   CS-100 Series		■	低濃度HF/HCL/NH3 濃度モニタ※※   HF-960M		■	導電率計※※   HE-480 Series
	■	フッ酸モニタ   CM-200/210		■	溶存オゾンモニタ※※ HZ-960		■	液体微少デジタルマスフローメータ／コントローラ※※※   LF-F/LV-F Series
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ガス制御／濃度管理／圧力計測
	■	マルチレンジ／マルチガスデジタルマスフローコントローラ※※※   SEC-Z500X Series		■	マスフローコントローラ※※※   SEC-E40 Series		■	オートプレッシャレギュレータ※※※   UR-7340/7350 Series
	■	液体材料気化供給システム※※※   LSC-A100 Series		■	液体材料自動供給システム※※※   LU-A1000 Series		■	残留ガス分析計※※※   MICROPOLE™ System
	■	FTIRガス分析計   FG-100A Series
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