現代の産業化社会における二酸化炭素、メタン、フロン、亜酸化窒素などの「温室効果ガス」の排出量は、これまで増加の一途をたどってきました。現在の大気は産業革命前とくらべて、たとえば二酸化炭素では2割以上多く含むようになっています。

化石燃料の消費にともなう二酸化炭素の排出量がこれからも増え続け、さらにそれ以外の温室効果ガスも現在の勢いで増えていくとすると、21世紀末までには地表の平均気温は3℃上昇すると予測されています。そしてこれにより、海面水位は65cm〜1m上昇するといわれています。

「たかが1m」と考えてしまいがちですが、たとえばナイル川河口のような海面上昇に対して非常に弱い地域では、多くの土地が失われる恐れがあります。また、モルジブなど海抜2m程度しかない国では、海面が1m上昇すると台風が来ただけで国全体が壊滅状態になる可能性すらあるのです。

日本の沿岸域においても、現在861平方キロメートルが満潮水位以下にあります。仮に海面が1m上昇すると、この範囲が約2.7倍に拡大し、高潮・津波の氾濫危険地域は約4倍に拡大すると言われています。

1997年に京都で開催された「国連気候変動枠組条約第3回締約国会議(COP3)」において、先進国における温室効果ガスの排出削減目標などを定めた「京都議定書」が採択されました。COP3削減対象ガスには、二酸化炭素はもちろんメタン、亜酸化窒素、そして「パーフルオロコンパウンズ(PFC)」があります。

私たちの生活のなかでも、スプレーや電気冷蔵庫に使われていたフロンガスが代替ガスへ切り替えられてきましたが、PFCもフロンガスの一種です。

じつはPFCガスは、半導体・液晶生産プロセスで広くもちいられてきました。半導体の回路を形成するパターンをシリコンウェハ上に形成するときに、プラズマエッチング装置の反応ガスとして使用されているのです。

身のまわりに携帯電話やパソコン、家電製品などがあふれている今日、半導体・液晶生産プロセスに使われるPFCガスの量も増加する可能性があります。ましてPFCガスは、二酸化炭素の100倍から1000倍もの温暖化効果があるとされているのです。

このため日本国内の半導体業界では、PFCガスの削減目標として1995年の排出量を基準に、10%削減しようと取り組んでいます。